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微束EUV、X射线光源
微束 EUV、X 射线光源是为先进半导体工艺检测开发的产品。通过电子束精准轰击高纯度靶材产生稳定微光斑光源，生成高分辨图象，使得结果更直观。该产品主要应用于薄膜工艺检测或三维封装工艺检测。
规格参数
| 规格 | |
|---|---|
| 电子加速电压 |
15 kV–20kV (EUV) 40 kV–60kV (X-ray) |
| 靶材 | 硅(EUV);钨(X-ray) |
| 光斑尺寸 | ≥200 nm |
微束 EUV、X 射线光源是为先进半导体工艺检测开发的产品。通过电子束精准轰击高纯度靶材产生稳定微光斑光源，生成高分辨图象，使得结果更直观。该产品主要应用于薄膜工艺检测或三维封装工艺检测。
| 规格 | |
|---|---|
| 电子加速电压 |
15 kV–20kV (EUV) 40 kV–60kV (X-ray) |
| 靶材 | 硅(EUV);钨(X-ray) |
| 光斑尺寸 | ≥200 nm |