USM-E(表面电子显微镜)

一台多功能高性能表面分析仪器,它可以用于原位观测固体材料样品表面生长、相变、扩散、掺杂等动态表面过程扩散等动力学过程。该产品又可以用于全息表面分析系统,实现亚单层灵敏度的测量。在超薄膜生长、二维材料、金属、半导体、磁材料、纳米材料等领域有广泛应用。

规格参数

规格
阴极 肖特基热场发射源/自旋极化发射体
分辨率 ≤ 5 nm
视场 1 μm – 160 μm
样品温度 10 K – 2000 K
真空度 自旋极化阴极:≤1x10-11mbar
主腔:≤ 1×10-10 mbar

成像模式与机制

成像模式
(SP)LEEM
(SP)LEED, μ(SP)LEED
MEM
ps-(SP)LEEM/(SP)LEED
成像机制
明场、暗场
磁性
量子相位
反射率

应用场景:原位CVD生长观察
应用场景:超薄膜层数标定