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本次大会在中国技术创业协会、上海市经济和信息化委员会、上海市科学技术协会、上海虹桥国际中央商务区管理委员会和上海市闵行区人民政府指导下，由国家集成电路创新中心、上海市仪器仪表行业协会和财联社主办，复旦大学光电研究研究院、复创芯、科创板日报、上海南虹桥投资开发（集团）有限公司和上海段和段（虹桥国际中央商务区）律师事务所等单位承办，中国上海测试中心、上海市集成电路行业协会等单位协办，仪器信息网、半导体综研、上海市真空学会官网为大会支持媒体，多方协力共同为大会的成功举办提供助力。

来自清华大学、北京大学、复旦大学、上海交通大学、华东师范大学、同济大学、上海大学、上海理工大学、浙江大学、南京大学、哈尔滨工业大学、天津大学、北京航空航天大学、华中科技大学、深圳大学和华侨大学等半导体检测领域的专家教授。中国科学院院士、复旦大学光电研究院院长褚君浩，中国工程院院士、上海理工大学光电信息与计算机工程学院院长庄松林，中国半导体行业协会副秘书长兼封测分会秘书长徐冬梅等众多学术、行业大咖将悉数到场。此外，中科飞测、上海精测、普源精电、北方华创、通富微电、苏州天准和长川科技等100多家企业，500多位嘉宾共同参加了会议交流。在本次大会开幕式上，中国工程院院士庄松林、上海虹桥国际中央商务区管委会副主任李康弘、国家集成电路创新中心副总经理沈晓良为大会致辞。

接下来的大会报告由复旦大学微电子学院教授、大会执行主席卢红亮主持，上海复旦微电子集团股份有限公司副总经理沈磊，中国半导体行业协会副秘书长兼封测分会秘书长、西安交通大学微电子行业校友会秘书长徐冬梅，复旦大学光电研究院院长、中国科学院院士褚君浩，元相微科技有限公司董事长、曾任超瞬态装置实验室主任、电子显微镜中心科研合作主任唐文新依次带来精彩分享。

唐文新先生作为此次主题报告的压轴嘉宾，重点介绍了超级表面电子显微镜（USM-E）对于中国检测技术的巨大推动作用和对世界半导体产研的革命性帮助。

唐文新先生在报告中详细阐述了超级表面电子显微镜（USM-E）的创新原理及其在纳米尺度下的卓越性能。他指出，USM-E通过采用先进技术，能够实现对微小样品的高分辨率成像与快速观测，从而在材料科学、生物医学和纳米技术等领域展现出前所未有的应用潜力。

他进一步强调，USM-E的引入不仅将大幅提升中国在微电子领域的检测能力，还将为国内半导体产业的自主研发提供强有力的技术支持。唐文新先生表示，随着中国在半导体制造和设计领域的不断进步，USM-E将成为推动产业发展的关键工具，有助于缩小与国际先进水平的差距。

在展望未来时，唐文新先生满怀信心地指出，USM-E的推广和应用将为全球半导体产业带来革命性的变革。他提到，随着技术的不断成熟和优化，USM-E有望在芯片制造、缺陷检测、材料分析等多个环节发挥关键作用，从而推动整个产业的升级换代。

报告的最后，唐文新先生呼吁各界加强合作，共同推动超级表面电子显微镜技术的进一步发展和应用。他相信，在政府、企业、科研机构的共同努力下，中国将在全球半导体技术竞争中占据更加重要的地位，并为世界科技进步作出更大的贡献。

这次大会的报告内容详实、观点鲜明，得到了来自各个行业和领域的专家学者们的一致好评。他们纷纷表示，报告不仅深入分析了当前的行业发展趋势，还提出了许多具有前瞻性的见解和建议，令人耳目一新，并纷纷表示出了极高的合作意愿。